真空鍍膜機的厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也是說要實現10A甚至1A的表面平整。
真空鍍膜機在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。
真空鍍膜機的晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題，具體見下。
真空鍍膜機的操作程序
① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。
② 打開總電源開關，設備送電。
③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。
⑤ 落下鐘罩。
⑥ 啟動抽真空機械泵。
⑦ 開復合真空計電源
a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
b.低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
⑧ 當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨ 真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
⑩ 低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉）。
? 等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時，開規管燈絲開關。
a. 發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
b. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
